图形化膜层的方法[发明专利]

来源：华佗健康网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：图形化膜层的方法专利类型：发明专利

发明人：宗登刚,徐爱斌,于涛,于世瑞,孔蔚然申请号：CN201110300215.1申请日：20110928公开号：CN102315100A公开日：20120111

摘要：一种图形化膜层的方法，包括：提供基底，所述基底上形成有膜层；在所述膜层上形成中间层；在所述中间层上形成图形化的深紫外光刻胶层，定义出所述膜层需要去除的区域；以所述图形化的深紫外光刻胶层为掩膜，去除所述中间层没有被所述图形化的深紫外光刻胶层覆盖的部分，形成图形化的中间层；去除所述图形化的深紫外光刻胶层；以所述图形化的中间层为掩膜刻蚀所述膜层；去除所述图形化的中间层。解决现有技术中，当膜层图形的线宽缩小至一定尺寸及更小(小于等于350nm)时，必须用深紫外光刻技术制作图形，而膜层后续的湿法刻蚀又不允许深紫外光刻胶做掩膜的矛盾。

申请人：上海宏力半导造有限公司

地址：201203 上海市浦东新区浦东张江高科技园区祖冲之路1399号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：骆苏华

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