作者机构： [1]上海工程技术大学,上海201620出版物刊名： 艺术科技页码： 5-7页
年卷期： 2019年 第20期
主题词： 光催化;g-C3N4/WO3复合型光催化剂;表征;催化性能
摘要：机械研磨法制备g-C3N4,利用液相化学法的水热结晶法制备出g-C3N4/WO3复合型光催化剂,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线光电子能谱分析(XPS)等手段,对g-C3N4/WO3复合型光催化剂的结构和性能进行表征.同时采用可见光催化分解次甲基蓝对其催化性能进行测试分析,得出复合型光催化材料的催化性能较高且较为稳定的原因在于,复合材料可有效地抑制光生电子空穴的结合,提供更多的反应机会.
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