约束阻尼结构两级协同优化设计方法[发明专利]

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专利名称：约束阻尼结构两级协同优化设计方法专利类型：发明专利发明人：张东东,陈静月申请号：CN201911075847.5申请日：20191106公开号：CN110909496A公开日：20200324

摘要：本发明涉及一种约束阻尼结构两级协同优化设计方法，针对薄壁结构的减振降噪问题，对基板结构表面的约束阻尼材料进行优化配置时，以部分覆盖约束阻尼材料的结构作为初始结构，这与传统的全覆盖约束阻尼结构作为初始结构相比，在优化迭代过程中大大减少了声辐射功率灵敏度的计算量；本发明方法对约束阻尼材料的厚度参数进行了离散化，在第一级协同优化中可实现约束阻尼材料厚度和位置协同优化，使得充分利用约束阻尼材料以获得最优的减振降噪效果；第二级优化的初始结构本身即为一种最优结构，将本发明的两级优化相结合，可在严格的附加质量约束条件下获得约束阻尼材料的厚度和位置最优配置，实现更优的减振降噪效果。

申请人：上海理工大学

地址：200093 上海市杨浦区军工路516号

国籍：CN

代理机构：上海申汇专利代理有限公司

代理人：徐颖

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