恒流二极管的制作方法和恒流二极管[发明专利]

来源：华佗健康网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：恒流二极管的制作方法和恒流二极管专利类型：发明专利发明人：赵圣哲

申请号：CN201510377956.8申请日：20150630公开号：CN106328515A公开日：20170111

摘要：本发明提供一种恒流二极管的制作方法和恒流二极管，包括：在基底的表面形成第一掩膜层；以所述第一掩膜层为掩膜，对所述基底进行离子注入，形成离子注入层；在所述离子注入层的上方形成第二掩膜层；去除所述第一掩膜层；以所述第二掩膜层为掩膜，对所述基底进行刻蚀，形成沟槽；在所述沟槽中形成金属层。本发明提供的恒流二极管的其制作方法和恒流二极管，首先在第一掩膜层的阻挡下对基底进行离子注入形成离子注入层，然后刻蚀沟槽，通过第二掩膜层将需要刻蚀沟槽的区域保护起来，从而避免了现有技术要在深沟槽内涂抹光刻胶这一步骤，提升了产品的良率。

申请人：北大方正集团有限公司,深圳方正微电子有限公司

地址：100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦9层

国籍：CN

代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司

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