非感光性聚酰亚胺钝化层的制备方法[发明专利]
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专利名称：非感光性聚酰亚胺钝化层的制备方法专利类型：发明专利发明人：郭晓波,程晋广申请号：CN201110366808.8申请日：20111118公开号：CN103123896A公开日：20130529
摘要：本发明公开了一种非感光性聚酰亚胺钝化层的制备方法，该方法在非感光性聚酰亚胺旋涂步骤后，固化步骤前，进行以下步骤：1)在非感光性聚酰亚胺上旋涂、烘烤一层光敏性物质；2)曝光，显影，去除曝光区域的光敏性物质，不去除或部分去除非感光性聚酰亚胺，部分形成非感光性聚酰亚胺钝化层开孔；3)使用干法回刻的方法刻蚀去除非曝光区域的光敏性物质和钝化层开孔区域的非感光性聚酰亚胺。该方法通过在非感光性聚酰亚胺钝化层的制备工艺中引入干法回刻步骤，使显影液不会直接接触金属铝线，避免了金属铝线在显影过程中被显影液腐蚀，同时通过控制显影时间，可以获得不同形貌的非感光性聚酰亚胺钝化层，以满足不同产品工艺的需求。
申请人：上海华虹NEC电子有限公司
地址：201206 上海市浦东新区川桥路1188号
国籍：CN
代理机构：上海浦一知识产权代理有限公司
代理人：刘昌荣
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