光阻及其制备方法、显示装置[发明专利]
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专利名称：光阻及其制备方法、显示装置专利类型：发明专利发明人：任元,方群
申请号：CN202010318442.6申请日：20200421公开号：CN111522199A公开日：20200811
摘要：本发明公开了一种光阻及其制备方法、显示装置，所述光阻的组分按照质量分数包括5％～10％酚醛树脂、5％～10％的单体、10％～15％的氧化钛、1％～10％的光起始剂以及60％～80％的分散剂。本发明的技术效果在于，采提高所述光阻对紫外光的吸收利用率，增强所述光阻中酚醛树脂的固化交联程度。
申请人：武汉华星光电技术有限公司
地址：430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
国籍：CN
代理机构：深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人：李新干
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