专利名称：箔材料及其制造方法专利类型：发明专利
发明人：W·霍夫米勒,T·布尔夏德,T·皮洛,M·海姆申请号：CN200580013681.4申请日：20050429公开号：CN1950217A公开日：20070418
摘要：本发明涉及一种用于转印到目标基片的箔材料，以及用于生产这样薄片的方法。根据本发明的方法，提供了塑料支持薄膜(32)，其适于排列晶性液体材料。包括被排列的晶性液体材料的层(34)，局部施加到基片薄膜(32)。
申请人：捷德有限公司
地址：德国慕尼黑
国籍：DE
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
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