晶片清洗设备和使用该设备的清洗方法[发明专利]
来源：华佗健康网
专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：晶片清洗设备和使用该设备的清洗方法专利类型：发明专利发明人：李在桓
申请号：CN201810687730.1申请日：20180628公开号：CN109396102A公开日：20190301
摘要：本发明提出一种晶片清洗设备，包括：清洗箱和清洗单元，清洗单元安装为能够向上或向下运动到清洗箱中，并且构造为将清洗溶液注射到清洗箱的内壁上。
申请人：爱思开矽得荣株式会社
地址：韩国庆尚北道
国籍：KR
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：朱立鸣
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容